高纯输送・静稳致远|日本东振 TVP 系列偏心泵,半导体流体输送理想之选

一、磁力耦合无密封,零泄漏杜绝污染,守护高纯制程底线
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流道采用 316L 不锈钢材质(可选陶瓷涂层),无金属离子析出,兼容强酸、强碱、有机溶剂,满足 Class 100(ISO Class 5)洁净室标准;
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零泄漏设计有效防止外界污染物反向侵入,杜绝晶圆表面颗粒吸附与电路腐蚀,保障光刻、清洗等精密工序良品率;
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适配易燃、有毒高纯介质,规避化学品挥发安全隐患,契合半导体厂 EHS 管理要求。
二、静音低振适配洁净室,助力精密制程稳定运行
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运行噪音低至40dB(TVP‑S 型),远低于传统齿轮泵(60–75dB)与隔膜泵(65–80dB),不干扰精密仪器正常作业;
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运行振动<0.1mm,无脉动冲击,避免对光刻设备、检测仪器、光学平台的精密测量造成干扰,保障晶圆加工一致性;
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紧凑轻量化设计(TVP‑S 仅 3kg),安装无方向限制,适配半导体设备狭小集成空间,便于生产线布局优化。
三、超低脉动精准输送,保障工艺均匀性与稳定性
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恒定流量输出,保障晶圆清洗均匀性,避免局部清洗残留或过腐蚀,提升清洗良率;
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低脉动压力稳定,适配光刻胶涂布系统,确保胶层厚度均匀,减少光刻缺陷,保障图案精度;
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流量覆盖 1.0–42.0 L/min,压力 0.25–1.00 MPa,全面覆盖半导体从小流量精密循环到大流量工艺输送的全场景需求。
四、高洁净长寿命,降低维护成本,适配 24/7 连续生产
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无易损密封件,设计寿命长达8000 小时,免维护周期长,大幅降低备件采购与人工维护成本;
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内部流道光滑无1死角,低颗粒释放(<10μm),减少介质残留与积垢,适配 CIP 原位清洗,满足半导体洁净要求;
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材质适配性强:316L 不锈钢、青铜、陶瓷涂层可选,兼容超纯水、化学品、冷却剂等多种介质,减少设备型号冗余;
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支持 AC/DC、单相 / 三相、防爆电机定制,适配半导体厂不同供电与防爆区域需求。
五、全工序精准适配,半导体核心场景高效赋能
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晶圆清洗设备:TVP‑M/L 不锈钢版输送超纯水、清洗液,低脉动保障清洗均匀性,无泄漏避免污染;
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光刻 / 涂布系统:TVP‑S 静音型输送光刻胶、显影液,精准流量控制,低振动保障涂布精度;
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蚀刻 / 沉积工艺:耐腐蚀材质适配蚀刻液、特种气体输送,高洁净防止金属离子污染晶圆;
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精密冷却循环:40dB 超1静音运行,低脉动稳定温控,适配激光器、检测设备、光学平台冷却系统;
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化学品输送 / 回收:无泄漏设计适配高纯 / 腐蚀性化学品,长寿命减少停机,保障连续生产。
六、总结:东振偏心泵,先进制程可靠流体伙伴
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